㈜세원하이텍 장영기 대표가 지난 21일 ‘2026 대한민국 우수특허’ 대상을 수상했다고 28일 밝혔다.
대한민국 우수특허대상은 한국일보사와 특허청 산하의 한국특허정보원이 국내 우수특허 기술을 장려하며 국내 산업 경쟁력 강화를 도모하기 위해 마련된 상이다.
업체에 따르면 세원하이텍은 1㎛급 초정밀 에칭(Photolithography) 기술을 중심으로 표면처리·다이캐스팅·CNC가공 등 다단 공정을 자체화한 국내 정밀부품 전문기업이다. 이번에 선정된 특허는 드라이필름 패턴형성 공정과 샌드블라스팅 공정을 결합, 가공대상 중 식각이 필요한 부분을 선택해 가공하는 에칭 방법이다.
이 방법은 드라이필름을 이용해 식각·비식각 영역을 명확히 구분해 기존 습식 에칭 방식에서 발생되는 불필요한 영역의 식각이나 언더컷 문제를 해결할 수 있어 공정의 정밀성과 안정성이 강점이다. 또한 레이저 가공 과정에서 발생하는 열손상 문제, 일반 샌드블라스팅의 정밀패턴 가공의 한계, 기계적 드릴링의 박막소재 손상 등도 보완할 수 있다고 세원하이텍은 설명했다.
세원하이텍 장영기 대표는 “스마트폰·태블릿·웨어러블 기기 등 전자제품의 박형화·경량화·고집적화 추세에 따라 얇고 강한 소재에 정밀 개구부를 형성하는 기술의 수요는 지속될 것이다”라며 정밀가공품질 향상, 불량률 감소, 공정 대체 가능성, 고강도 소재가공 영역 확대 등을 파급효과로 들었다.
이어 “향후 사업 방향은 고객 맞춤형 공정 수주를 중심으로 설정하는 것이 적절하다”며 “적용범위를 확대해 전자기기, 자동차, 산업용 부품 등의 분야에서도 활용가능성을 검토하고 있다”고 말했다.
그러면서 “단순 임가공이 아닌 특허 기반 정밀 에칭 솔루션으로 포지셔닝하겠다”며 “단일 특허가 아닌 공정 포트폴리오를 구축하고 기술 우위를 강화할 것”이라고 밝혔다.
황지혜 기자 jhhwang@segye.com
