삼성전자는 네덜란드 반도체 노광설비 기업 ASML이 주도하는 ‘대형 마스크 컨소시엄’에 참여하고 차세대 12인치 포토 마스크 공동 개발에 나선다고 8일 밝혔다.
대형 마스크 컨소시엄은 현재 반도체 노광설비에 사용되는 6인치를 12인치로 전환하기 위한 협의체다. 삼성전자는 노광설비와 포토 마스크 관련 글로벌 기술 동향을 함께 모니터링하고 12인치 포토 마스크 개발을 목표로 공동 연구, 표준 개발 등의 협력 활동을 펼칠 계획이다. 포토 마스크란 미세 회로 패턴을 정교하게 새긴 정밀 ‘마스크(틀)’로 노광설비 내에서 빛을 통해 웨이퍼에 설계된 패턴을 새기는 필수 도구이며 회로를 새기는 정밀도가 반도체 성능과 수율을 결정짓는다.
그 동안 반도체 노광 공정에는 6인치 마스크가 사용됐는데, 하이 NA EUV 도입과 함께 12인치 마스크로 전환할 경우 나눠 새기고 이를 연결하는 작업 제약을 해소할 수 있어 팹 생산성을 높이고 칩 제조 비용을 낮출 수 있다고 회사 측은 설명했다. 특히 설계 단계에서 수백억 개의 트랜지스터를 정밀하게 배치하는 첨단 반도체의 경우 12인치 마스크를 통해 하이 NA EUV 설비의 이점을 온전히 활용할 수 있어 보다 경제적으로 생산이 가능하다.
삼성전자는 메모리 및 파운드리 제조 두 분야에서 업계를 선도해 온 기업으로서 오랜 EUV 사용 경험과 기술 리더십을 바탕으로 12인치 포토마스크 전환에 있어 핵심적인 역할을 수행할 것으로 기대된다.
한편, 삼성전자는 ASML과 2028년까지 첨단 D램 제조에 차세대 노광 설비 하이 NA EUV 도입을 위한 협력도 강화할 계획이다. 이번 양사의 협력은 하이 NA 기술이 첨단 메모리 제조에도 적용될 준비가 되었다는 것을 의미하며, 더욱 정밀한 패터닝을 통해 D램 미세화 로드맵을 연장하고 공정 단순화와 생산성 제고를 동시에 실현할 수 있을 것으로 기대된다.
전영현 삼성전자 대표이사 부회장은 “삼성전자는 혁신 기술과 강한 파트너십을 바탕으로 파운드리와 메모리를 포함한 첨단 반도체 제조 리더십을 이어가고 ASML과의 협력을 한층 강화하겠다”고 말했다.
오현승 기자 hsoh@segye.com
